2023年全國精密研磨拋光材料及加工技術發展論壇將于2023年9月18-19日在廣東省東莞市厚街鎮厚街大道東2號 （海悅花園大酒店）舉行，儒佳科技作為本次會議贊助單位出席本次會議。

會議背景：

   研磨拋光在很多精密工業產品生產中必不可少，尤其CMP拋光是半導體先進制程中的關鍵技術，隨著半導體產業的發展，研磨拋光材料市場規模持續擴大。人工智能和5G時代的到來，對

光學元件、觸摸屏、液晶顯示面板、光纖信號放大器等提出更高要求，稀土氧化鈰因其合適的硬度和化學活性，成為玻璃、硅片、石材、漆面等**的拋光材料；硅溶膠作為CMP拋光液的

重要組成部分，在超大規模集成電路硅襯底及層間電介質、淺溝槽隔離絕緣體、導體和鑲嵌金屬等全局平坦化過程中的有著重要的應用；氧化鋁粉體在五金、寶石及精密玻璃等行業不可替代

；碳化硼、立方氮化硼、金剛石等超硬材料也在不斷拓展在拋光領域的應用潛力。

   受益于5G通訊、半導體、人工智能、**等新興產業本身的需求拉動，研磨拋光材料市場放量在即，機遇值得把握。粉體圈、中國電子材料行業協會粉體技術分會誠邀您參與2023年9月

18-19日在東莞舉辦的“2023年全國精密研磨拋光材料及加工技術發展論壇”，共同探討拋光領域的市場發展走向及CMP拋光關鍵材料的創新關鍵及國產化。

儒佳產品介紹：

下面給大家介紹的這款設備是儒佳UM系列立式納米砂磨機，這是一款專門針對納米級物料研磨的研磨設備，

適用于市場上難分散及研磨的，且細度要求20-100nm的物料研磨。其優勢有：

專門針對微小研磨介質的使用進行了優化設計，可以使用0.1mm以下的研磨介質。

應用范圍廣闊，涵蓋了柔性分散至高能研磨范圍。

離心分離出料，無濾網。

研磨腔體全部為高耐磨材料，針對不同應用有多種材料選擇。